蔡司Zeiss 场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP

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简介：卡尔蔡司 Zeiss 场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP SUPRA 40是一款高分辨率场发射扫描电子显微镜，拥有第三代GEMINI 镜筒，可变压强性能加上多种纳米工具的使用，不用花费大量时间，使高分辨率成像和非导体样本的分析成为可能，超大的样品室适合各种类型探头及配...

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产品介绍

卡尔•蔡司Zeiss 场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP

SUPRA 40是一款高分辨率场发射扫描电子显微镜，拥有第三代GEMINI 镜筒，可变压强性能加上多种纳米工具的使用，不用花费大量时间，使高分辨率成像和非导体样本的分析成为可能，超大的样品室适合各种类型探头及配件的选择。该场发射电镜适用于材料领域、失效分析、过程控制，纳米技术等。

用途：

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体、晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

ZEISS的场发射扫描电镜全部采用新一代***镜筒(GEMINI)设计，具有优良的高、低加速电压性能。创新的InLens设计是目前上真正的内置镜筒电子束光路上二次电子探测器，具有的灵敏度和较高的接收效率，而且只接收来自样品表面的二次电子，因此具有业界较高等的分辨率和图像质量。二次电子探测器和背散射电子探测器均内置于镜筒电子束光路上，试样的工作距离不受背散射探测器的影响，可以非常接近极靴，这样可以同时获得较高的二次电子像分辨率和背散射电子像分辨率，且接收的背散射电子的能量可以控制。ZEISS的场发射扫描电镜创造性的采用电磁、静电复合式物镜，杂散磁场小，可对铁磁体样品进行高分辨率成像。

技术参数:

分辨率： 1.0nm @ 20KV

1.3nm @ 15KV

2.1nm @ 1 KV

5.0nm @ 0.2KV

2.0nm @ 30KV(VP mode)

放大倍数： 12 - 900,000x

加速电压： 0.1 - 30 KV

低压范围： 2-133Pa 1Pa步进可调

探针电流： 4 pA - 10 nA (4 pA - 20 nA 可选)

样品室： 330 mm (Ø) x 270 mm (h)

样品台： 5轴驱动

X = 130mm

Y = 130 mm

Z = 50mm

倾斜角T = -3 to 70°

R = 360°连续旋转

系统控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制

蔡司Zeiss 场发射扫描电镜 SUPRA 40/40VP

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