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EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 15/LS 15

EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 15/LS 15

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  • 简介:卡尔 蔡司 Zeiss EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 15/LS 15 ***光学,可见光学和电子光学的***。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和ZEISS。1965年推出优异台商业化扫描电镜;1985年推出上优异台数字化扫描电镜...

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卡尔•蔡司Zeiss  EVO系列钨灯丝扫描电子显微镜 EVO MA 15/LS 15
光学,可见光学和电子光学的***。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥)和ZEISS。1965年推出台商业化扫描电镜;1985年推出上台数字化扫描电镜。EVO系列电镜是高性能、功能强大的高分辨应用型扫描电子显微镜。MA 15用于材料领域,LS 15用于生命科学领域。该系列电镜采用多接口的大样品室和艺术的物镜设计,提供高低真空成像功能,可对各种材料表面作分析,并且具有业界的X射线分析技术。革命性的Beamsleeve的设计,确保在低电压条件下提供高分辨率的锐利图像,同时还可以进行准确的能谱分析。样品台为五轴全自动控制。标准的率无油涡轮分子泵能够满足快速的样品更换和无污染(免维护)成像分析。
 
用途:
 
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶粒取向测量。
 
技术参数:
 
分辨率:2.0nm@30KV(SE with Lab6 option)  3.0nm@30KV(SE and W)  4.5nm@30KV(VP with BSD) 
加速电压:0.2—30KV 
放大倍数:5—1000000x 
视野范围:6mm 
X-射线参数:8.5mm WD,35度接收角 
压力范围:10—400Pa (LS15:10-3000Pa)
工作室:365mm(φ)×275mm(h) 
5轴优中心自动样品台:X=125mm  Y=125mm  Z=50mm  T=0-90°R=360° 
较大试样高度:145mm,较大试样直径:250mm 
系统控制:基于Windows XP 的SmartSEM
 
 
主要特点:
 
 
能在可变压力下操作 
X射线和EBSD分析 
可移动大平台 
快抽真空 
未来的保证,可升在高压和水蒸气下成像和分析 
高亮度LaB6资源选择 
光线套选择
 
技术优势:
 
 
通过网络可远程控制 
在z轴上可机动化的移动50毫米并且在X和y轴上可移动125毫米 
样本高度较大增加到145毫米 
改进了低真空图像 
业界的X-射线分析技术

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